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目的 利用结构磁共振成像(structural MRI,sMRI)提取的区域特征来研究自闭症患者的大脑发育异常情况.材料与方法 收集59例年龄2～4岁的自闭症儿童和50名年龄4～10岁的正常儿童的结构磁共振数据,利用freesurfer软件提取大脑皮层厚度、灰质和白质区域体积以及从预定义的感兴趣区域(region of interest,ROI)提取的若干皮层下结构等区域特征,最后经统计分析方法计算两组的差异.结果 通过对150项脑皮层与体积指标进行t检验组分析,发现自闭症患儿与正常对照组在其中66项上存在显著差异(P＜0.05),与年龄较大的正常发育中的儿童相比,自闭症儿童的大脑表现出明显的过度生长模式,特别是在顶叶、枕叶、额叶、颞叶和楔前叶等区域.结论 本研究证实自闭症儿童存在大脑结构过度发育现象,增加的大脑尺寸是自闭症患儿早期大脑发育的重要结构特征,这将为自闭症的早期诊断和病情评估提供了有力工具.
作者：刘阳；朱志军；曹满瑞；刘炳光；郭吉敏；万国斌
来源：磁共振成像 2020 年 11卷 4期
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