目的:探讨注意缺陷多动障碍(ADHD)共患对立违抗障碍(ODD)儿童的大脑皮质形态学特点.方法:选取符合美国精神障碍诊断与统计手册第4版(DSM-Ⅳ)诊断标准的ADHD共患ODD儿童16例,不共患ODD的ADHD儿童20例,及性别、年龄匹配的36例正常对照儿童.采用中国修订韦氏儿童智力量表(C-WISC)评估智商.所有被试进行脑磁共振成像扫描及数据采集,采用FreeSurfer软件分析大脑皮质形态学指标.结果:ADHD伴ODD组[(6 528.1±857.5)mm3vs.(7 591.2±657.3)mm3]、ADHD不伴ODD组[(6 867.2±841.3)mm3vs.(7 591.2±657.3)mm3]左外侧颞上回脑区皮质体积均小于正常对照组(P＜0.05),而ADHD伴ODD与ADHD不伴ODD两组间体积差异无统计学意义(P＞0.05);ADHD组左外侧颞上回脑区皮质体积与ODD症状的相关无统计学意义(P＞0.05).3组间皮质厚度、表面积和曲率差异无统计学意义(均P＞0.05).结论:左外侧颞上回皮质体积减小可能是ADHD儿童的重要脑结构异常指征,共患ODD未改变这一特点.
作者：司飞飞；刘璐；李海梅；董敏；曹庆久；孙黎；钱秋谨；王玉凤
来源：中国心理卫生杂志 2024 年 38卷 2期
