目的 应用基于体素的脑形态测量学(Voxel-based Morphometric,VBM)法,比较缺陷型与非缺陷型精神分裂症患者大脑灰质结构损害的差异.方法 采用GE Signa TwinSpeed 1.5T超导型MRI成像系统,对缺陷型精神分裂症(N=10)、非缺陷型精神分裂症(n=11)及正常对照(n=15)进行全脑扫描,获取脑解剖结构MR T1图像.随后基于Matlab7.6及SPM5进行优化的VBM数据分析,再进行成组t检验.结果 与正常对照相比,非缺陷型患者的额、顶、颞、枕叶及基底节均有灰质体积下降;而缺陷型患者的灰质下降以广泛及显著的额叶损伤为特征,包括左额内侧回、双侧额下回、左侧额中回及左侧眶回等多个额叶区域,另外还涉及左颞中回、右颞上回以及右侧脑岛(Cluster≥30 mm3,P<0.01).两种亚型患者的比较显示,缺陷型患者在左额内侧回、双侧额下回、右中央前回以及右颞上回等脑区的灰质体积均低于非缺陷型患者(Cluster≥30 mm3,P<0.01).结论 精神分裂症的结构异质性可能是在共有额叶-颞叶脑区的灰质结构改变的基础上,缺陷型与非缺陷型的患者各有其特定的灰质下降模式.
作者：王晓晟；王湘；颜莉蓉；谭长连；司徒卫军；李亚军；姚树桥
来源：中华行为医学与脑科学杂志 2010 年 19卷 7期
