目的:通过体外实验探究无托槽隐形矫治磨牙远中移动不同设计方式下上颌牙列的三维受力，以期为临床设计合理的磨牙远中移动方案提供依据。方法:根据上颌磨牙远中移动方式，进行3种无托槽隐形矫治器设计：同时移动组设计上颌第一和第二磨牙同时远中移动；第二磨牙移动组设计上颌第二磨牙远中移动；第一磨牙移动组设计上颌第一磨牙远中移动；每组制作10个矫治器，移动量设计为0.2 mm。建立无托槽隐形矫治器上牙列三维力学传感测力装置，该装置包含14颗牙齿的上颌牙列模型，每颗牙齿与单独的传感器连接后将无托槽隐形矫治器戴入该上颌牙列模型，通过数据采集软件对14个传感器的数据进行采集。以移动牙为目标牙，除移动牙外的其余牙为支抗牙，测量3组无托槽隐形矫治器各牙位三维受力数据，并进行组间比较。结果:同时移动组第一和第二磨牙矢状向受力分别为（5.61±0.94）和（5.81±1.08）N，均显著小于其他组相同牙位目标牙（ P<0.05）；第一磨牙移动组第二磨牙受到矢状向反作用力（-6.73±1.99）N；3组前牙均受到矢状向反作用力，力值从尖牙至中切牙逐渐减小。冠状向上，同时移动组第二前磨牙受到腭向反作用力，力值为（-2.17±1.06）N；第二磨牙移动组第一磨牙同样受到腭向反作用力，力值为（-1.99±0.70）N；第一磨牙移动组第二磨牙、第二前磨牙也受到腭向反作用力，分别为（-2.85±0.57）和（-1.85±0.74）N。相比矢状向与冠状向受力，3组目标牙和支抗牙的垂直向受力均较小。 结论:同时远中移动第一和第二磨牙时两者受到的矢状向矫治力较小；单独远中移动第一磨牙时第二磨牙受到较大的矢状向反作用力；磨牙远中移动时应设计相邻支抗牙的颊向位移以抵消支抗牙受到的腭向反作用力。

目的:研究无托槽隐形矫治在拔牙病例中远移尖牙的移动效率和未设计位移支抗牙的实际三维位移。方法:收集无托槽隐形矫治第一前磨牙拔除的成人安氏Ⅰ类、分步法内收前牙患者17例，纳入研究牙齿共计170颗。通过三维扫描将患者治疗前模型和阶段研究模型数字化，利用数字化模型三维重叠技术收集中切牙、尖牙、前磨牙和磨牙的实际位移数据，计算尖牙的远中移动效率及未设计位移支抗牙的实际位移。结果:尖牙平均远移效率为87.78%±9.3%。后牙备抗组尖牙平均远移效率为89.27%±10.2%，后牙非备抗组尖牙平均远移效率为86.27%±6.6%，结果无统计学差异( P＝0.438)，尖牙设计远中移动1~2 mm的移动效率为88.21%±15%，2~3 mm的移动效率为87.10%±4.4%，结果无统计学差异( P＝0.762)。尖牙在矢状向设计位移量为-1.61±0.87 mm，实际位移量为-1.47±0.77 mm，差异意义有统计学( P<0.05)，垂直向设计位移量为-0.07±0.35 mm，实际移动量为0.26±0.48 mm，差异意义有统计学( P<0.05)。后牙备抗组第一磨牙垂直向平均位移量-0.10±0.24 mm，后牙非备抗组第一磨牙垂直向平均位移量0.15±0.33 mm，差异意义有统计学( P＝0.037)。后牙备抗组第二磨牙垂直向位移量-0.08±0.30 mm，后牙非备抗组第二磨牙垂直向位移量0.18±0.32 mm，差异意义有统计学( P＝0.023)；在后牙备抗组和非备抗组中，磨牙的矢状向和颊舌向位移无统计学差异。 结论:后牙备抗对尖牙远移效率无显著影响，尖牙远中移动效率较高，但易发生伸长移动；未设计位移的支抗牙在尖牙远移阶段发生了三维位移变化。

目的:应用有限元分析法探讨微种植体植入不同部位时辅助隐形矫治器远移下颌磨牙的生物力学效应,以确定微种植体植入部位的最优方案.方法:获取1例成年男性安氏Ⅲ类错 畸形患者锥形束计算机断层扫描(CBCT)数据,使用Mimics Medical和3-Matic建模软件建立隐形矫治器远移下颌磨牙的三维有限元模型,依据是否使用微种植体分为对照组(无微种植体,工况一)和3个实验组[下颌第一与第二前磨牙根间微种植体组(工况二)、下颌第二前磨牙与第一磨牙根间微种植体组(工况三)及下颌第一与二磨牙根间微种植体组(工况四)].在Ansys Workbench有限元分析软件中对各组模型以0.2 mm的步距远中移动下颌第二磨牙,施加自微种植体至隐形矫治器每侧2 N的牵引力辅助磨牙远移,分析各工况牙齿位移趋势、隐形矫治器形变特点和Von Mises等效应力云图.结果:拟矫治牙的远中移动量和压低移动量均为工况四>工况三>工况二>工况一,其中工况四下颌第二磨牙远中移动量为0.188 mm.支抗牙在工况一中表现为近中和唇向移动的位移趋势,在实验组各工况中表现为向远中和舌侧的移动趋势,其移动量为工况四>工况三>工况二.初戴时矫治器第一磨牙和第二磨牙间挤压形变量最大,应力峰值为192.15 Mpa.应力释放后,对照组应力集中现象仍位于矫治器第一磨牙和第二磨牙间,实验组应力集中现象位于矫治器尖牙唇面,其中工况四应力峰值为56.48 Mpa.结论:使用微种植体支抗辅助下颌磨牙远移可增加磨牙远移量,减少前牙支抗丢失.植入部位越靠后,产生的磨牙远移压低效应越明显,隐形矫治器牙齿移动实现率越高.

目的:应用三维有限元技术,模拟在下颌第一磨牙颊舌侧应用不同附件使其近中移动0.2 mm,探讨牙齿的位移趋势及牙周膜应力分布情况.方法:应用Mimics19.0,Geomagic Wrap2017,NX10.0等专业建模软件建立有限元模型,使用Ansys Workbench18.0软件模拟下颌第一磨牙颊舌侧应用不同附件并近中移动0.2 mm.结果:六组模型下颌第一磨牙均表现近中舌向倾斜移动,支抗牙齿移动方式主要表现为倾斜移动.结论:下颌第一磨牙在近中移动过程中主要表现为冠近中舌向,根远中颊向的倾斜移动趋势,同时出现了支抗牙支抗丧失的情况.应用舌侧附件时,磨牙近移时更接近整体移动.

目的:建立隐形矫治与固定矫治有限元模型并模拟临床推上颌磨牙远移,分析其位移趋势以及应力分布的差异.方法:通过CT扫描获得自愿者(男,25岁)上颌骨数据,利用Mimics等软件建立隐形矫治器与固定矫治器的三维模型,施加模拟隐形及固定矫治器推上颌第二磨牙远移的载荷,比较其位移趋势及其牙周膜应力分布差异.结果:隐形组磨牙远移时位移的旋转中心位于根尖1/3处,固定组位移的旋转中心位于根分叉处;牙周膜最大应力值隐形组高于固定组,但隐形组应力分布均匀;支抗前牙位移隐形组小于固定组.结论:隐形矫治与固定矫治在推磨牙远移时均使磨牙产生远中倾斜移动趋势,在对于支抗牙的控制方面隐形组优于固定组.

目的 构建隐形矫治器上颌磨牙远移的生物力学研究模型,分析矫治体系的初始位移及应力分布特点,为临床应用提供指导.方法 建立隐形矫治上颌磨牙远移的三维有限元模型,在ANSYS软件中采用非线性有限元法通过数值仿真分析求得受力瞬间牙齿在牙周膜及周围牙槽骨等约束下的移动方式、牙套形变、牙周膜应力分布,并探索适宜的Ⅱ类牵引增强前牙支抗的必要性及适宜力值.结果 第二磨牙远移的同时伴有其牙冠远中倾斜、伸长及舌侧倾斜;其余牙表现为唇/颊倾、压低且位移量与距支抗牙距离成反比.牙周膜等效应力越靠近颈缘越大,距离第二磨牙越远越小,均小于牙周组织可承受最大应力.矫治器在第二磨牙处出现应力集中现象,位移峰值小于材料的弹性极限和拉伸极限强度.100 gⅡ类牵引可以有效抵抗前牙唇倾,300 g牵引力作用于牙列后超过牙周膜最大承受力值.结论 使用无托槽矫治技术远移磨牙不能实现单纯的整体移动且支抗牙有一定的支抗丧失,需要进行必要的支抗控制.100 gⅡ类牵引即可有效抵抗推磨牙带来的前牙支抗丧失,300 g牵引力作用下牙周膜受力过大,尽量避免使用.

背景:在应用隐形矫治器矫治的拔牙病例中,尖牙先远移的内收方式有利于节约后牙支抗,对抗牙套的弓状效应,但尖牙远移后改变了牙套对牙齿的包裹及矫治器拔牙空泡处的弹性,减轻邻牙移动约束,这可能会对前牙压低产生影响.目的:运用有限元技术研究隐形矫治拔牙方案中尖牙远移量对前牙压低效果的影响.方法:建立包括牙齿、牙周膜、牙槽骨、隐形矫治器、附件的减数第一前磨牙下颌有限元模型,模拟临床尖牙远移方式进行分步压低前牙的操作,对照组尖牙不移动,实验1组为尖牙远移1 mm,实验2组为尖牙远移至拔牙间隙1/3处,分析尖牙远移后对前牙压低的影响.结果 与结论:①实验1组前牙压低量最大,尖牙切缘垂直向位移为0.0178670 mm,中切牙垂直向位移为0.0096470 mm,侧切牙垂直向位移为0.0077775 mm;对照组前牙压低量最少,尖牙切缘垂直向位移为0.0081953 mm,中切牙垂直向位移为0.0052380 mm,侧切牙垂直向位移为0.0056892 mm;实验2组尖牙切缘垂直向位移为0.0144630 mm,中切牙切缘垂直向位移为0.0092947 mm,侧切牙垂直向位移为0.0070139 mm;②3组组内,支抗磨牙的等效应力最小,切牙切缘位移大于根尖位移,唇、舌侧等效应力分布存在显著差异;③结果 显示,尖牙远移可改善矫治器对前牙的压低量,但不同的远移量对前牙压低效果不同;支抗牙距离目标牙越近受力越大,反之受力越小;隐形矫治主要为倾斜压低前牙.