目的:探索pH响应性新型叔胺单体（DMAEM）改性树脂粘接剂（DMAEM@RA）防治继发龋的应用前景。方法:按粘接剂改性的方法，向树脂粘接剂中添加5%DMAEM，改性合成DMAEM@RA。以变异链球菌（Sm）和干酪乳杆菌（Lc）双菌种生物膜为研究模型，分别在树脂粘接剂（对照组）和DMAEM@RA（DMAEM@RA组）上进行培养。分别设置pH值为7.4、6.0、5.5和5.0的培养体系。通过定量PCR分析菌量，通过扫描电镜和胞外多糖染色分析DMAEM@RA对双菌种生物膜表型、菌量及胞外多糖的影响。实时荧光定量PCR研究DMAEM@RA对Sm致龋毒力基因的影响。结果:DMAEM@RA在酸性条件下可显著降低Sm和Lc的菌量，特别是Lc。pH=5.0时，DMAEM@RA组共培养Sm菌量对数值［lg（CFU/ml）］（7.58 ±0.01）显著低于对照组（7.87 ±0.03）（ t=14.32， P<0.001），Lc菌量对数值［lg（CFU/ml）］（7.29 ±0.04）亦显著低于对照组（7.93 ±0.15）（ t=6.93， P=0.002）。扫描电镜下也可观察到DMAEM@RA组菌量减少，同时有细胞碎片出现。此外，DMAEM@RA可在酸性条件下显著减少双菌种生物膜的胞外多糖生物量，pH=5.0时DMAEM@RA组胞外多糖生物量值［（25.13± 3.14）mm 3/mm 2］显著低于对照组［（42.66 ±7.46）mm 3/mm 2］（ t=3.75， P=0.020）。DMAEM@RA可在酸性条件下显著上调Sm的gtfB、gtfC基因表达，pH=5.0时gtfB、gtfC基因分别显著上调（14.64 ±0.44）和（2.99 ±0.20）倍（ t=-42.74， P<0.001； t=-13.55， P<0.001）。 结论:DMAEM@RA在酸性条件下有较好的抑菌作用，具有防治继发龋发生发展的良好潜力。

半透明氧化锆作为新一代的氧化锆全瓷材料,具有良好的力学和光学性能,常应用于前牙美学区修复.要获得良好的远期修复效果,关键在于尽可能提高该材料的粘接强度,因此明确半透明氧化锆陶瓷材料粘接效果的影响因素非常重要.在实际应用中,半透明氧化锆的粘接效果会受到多种因素的影响,本文主要就半透明氧化锆陶瓷的组成与结构、表面处理方法、表面改性方法,粘接性单体与底涂剂等影响因素的研究进展作一综述,为其临床应用提供参考.

目的 评价一种新型季铵盐类单体,甲基丙烯酸十六烷基二甲(dimethylaminohexadecyl methacrylate,DMAHDM)对正畸粘接剂粘接强度和抗菌性能的影响.方法 将DMAHDM以0％(对照组),1.5％,3％和5％的比例添加到商品化的正畸粘接剂中.测试托槽剪切粘接强度,使用人唾液培养所得的牙菌斑全菌生物膜模型来研究粘接剂的抗菌性能.结果 在正畸粘接剂中添加3％的DMAHDM不影响托槽的粘接强度.随着DMAHDM含量的增加,改性正畸粘接剂的抗菌性能不断增加.含有3％DMAHDM的改性组试件表面附着菌斑的代谢活性和乳酸产量大约是对照组的15％.活/死菌染色显示对照组试件表面黏附有大量的活细菌,含有3％DMAHDM的改性组试件的表面主要为死细菌.结论 DMAHDM改性正畸粘接剂在不影响托槽粘接强度的前提下,显著提高粘接剂的抗菌性能,具有一定临床应用价值.

目的 提供磷酸酯单体双季戊四醇五丙烯酸酯磷酸酯(Dipentaerythritol penta?acrylate phosphate,PENTA)与牙科氧化锆陶瓷结合的化学证据,分析PENTA提高牙科氧化锆陶瓷粘接的机理.方法 配置包含PENTA的质量分数为5%、10%、15%、20%的实验性底涂剂,用其处理Y?TZP(Yttria?stabilized tetragonal zirconia polycrystals)瓷粉,随后以丙酮反复清洗去除游离成分后分别进行红外光谱分析(fourier transform infrared spectroscopy,FTIR)和热重分析(thermogravimetric analysis,TG).FTIR分析以10%PENTA丙酮溶液作为对照,分别采用二阶导数分峰和残差分峰两种方法对FTIR图谱磷酸基团特征峰进行分峰分析;TG以空白Y?TZP粉作为对照.结果 两种FTIR分峰分析结果一致,均表明各种浓度的包含PENTA的底涂剂与Y?TZP陶瓷接触后,磷酸基团的P?O键振动所产生的波峰向波数减小的方向移动.热重结果证明PENTA能够化学吸附于Y?TZP表面,高浓度组的PENTA与氧化锆的反应程度更高.结论 PENTA能够与Y?TZP发生化学结合,该化学反应的存在依赖于PENTA分子中的磷酸基团发挥作用.

目的 初步评价添加甲基丙烯酰氧乙基-正十六烷基-二甲基氯化铵(DMAE?CB)和无定形纳米磷酸钙(NACP)的粘结剂粘结性能和抗菌性能.方法 将DMAE?CB和NACP按照不同比例添加到商品化牙本质粘接剂中.按比例的不同将实验分成8组,商品化粘结剂作为对照组,用万能材料试验机进行牙本质剪切强度测试,然后进行接触性抑菌实验,研究不同分组粘结剂固化后,对变形链球菌的抗菌活性.结果 对照组剪切强度为(17.96± 3.45)MPa,实验组结果分别为A:(19.25± 2.80)MPa,B:(18.70±2.42)MPa,C:(18.47±2.73)MPa,D:(18.22±2.50)MPa,E:(17.29±4.54)MPa,F:(18.40±2.98)MPa,G:(18.13±4.39)MPa,实验组和对照组剪切强度差异无统计学意义(P=0.993>0.05).接触性抑菌试验的对照组无明显抗菌作用,实验组抗菌单体添加量为1%时具有明显的抗菌作用(P<0.05),当添加量为3%时,抗菌活性进一步增强,但是添加量为4%时,抗菌活性并未明显增加.结论 添加了DMAE?CB和NACP 的粘结剂固化后,不影响粘结强度,且具有良好的抗菌性能.

目的 探讨甲芬那酸的分析和分离方法.方法 采用沉淀聚合法合成甲芬那酸分子印迹聚合物纳米微球(MIPNs),采用扫描电子显微镜(SEM)、紫外光谱、红外光谱、静态吸附实验(BET)、斯卡查德分析(Scatchard analysis)等对MIPNs进行表征.结果 功能单体的选择对聚合物的大小和形态有较大的影响,用甲基丙烯酸为功能单体时,聚合物颗粒都呈规则的球状,表面光滑,粒径分布较均匀,分散性好,无明显的粘接现象,粒径达到450 nm;甲芬那酸与功能单体存在相互作用的化学基团;MIPNs对甲芬那酸有亲和性,静态分配系数Kd可达1.716 9 mmol·L-1.结论 MIPNs对甲芬那酸的分析和分离提供了一种新的方法,并对其在药物缓释系统的研究创造了条件.

目的 研究两种不同的磷酸酯单体MDP、PENTA在碱性环境下放置不同时间对氧化锆陶瓷与树脂间粘接效果的影响.方法 分别配置含有MDP和PENTA两种磷酸酯单体的处理剂,与一定量的氢氧化钠碱液混合调节pH值为9,以不混合碱液者作为对照,以上处理剂放置2 h、1周、4周后用于处理氧化锆陶瓷,测量与树脂的剪切粘接强度(SBS).放置不同时间的处理剂处理的氧化锆陶瓷粉以红外光谱分析表面化学键变化(FTIR).结果 不论何种磷酸酯单体,混合碱液后均导致氧化锆与树脂间的SBS值降低;不同磷酸酯单体的处理剂增强氧化锆陶瓷与树脂粘接的效果之间不存在统计学差别.结论 磷酸酯单体混合碱液后对氧化锆与树脂间的粘接强度有负面影响.

口腔树脂基材料包括复合树脂充填材料、牙科用树脂水门汀、牙科用粘接剂和窝沟封闭剂等,本文基于口腔用树脂基材料安全性,从口腔用树脂基材料的组成及聚合引发体系、单体浸出及降解机理、树脂单体基本的毒理学信息以及口腔树脂基材料可引发的不良反应等方面综述了该类材料在临床使用过程中存在的风险,为口腔医师、患者、医疗器械产品制造者及监管部门对此类产品的安全性风险有正确地认知,指导此类产品在临床中的安全使用.

目的 比较5种牙本质粘接剂的细胞毒性,探讨影响其差异的相关因素及其与单体双键转化率的关系.方法 选择5种临床常用的商品牙本质粘接剂OptiBond FL(FL)、Single Bond 2(SB)、Prime&Bond NT(PB)、Clearfil SE Bond(SE)和Adper Easy One(EO),采用MTT法检测材料的细胞毒性,运用荧光染色法观察细胞形态.采用傅里叶红外光谱测量5种牙本质粘接剂的单体双键转化率.结果 牙本质粘接剂浸提1 d时,MTT检测得到的OD值从大到小依次为SE>C≈FL≈EO≈PB>SB,其中SB组的吸光度值明显低于对照组,且差异具有统计学意义(P<0.05);牙本质粘接剂浸提3 d和5 d时,SB组和EO组的吸光值远低于对照组,呈现明显的细胞毒性.牙本质粘接剂单体双键转化率值从大到小依次为PB>EO>FL>SB>SE,相邻两组间差异有统计学意义(P<0.05).但各组分本质粘接剂的细胞毒性和单体双键转化率的相关性无统计学意义(P>0.05).结论 不同牙本质粘接剂的细胞毒性不同,与其单体双键转化率不存在线性关系,两者均受到多种因素的影响.

目的 本研究将抗蛋白制剂(MPC)、抗菌性季铵盐单体(DMAHDM)、再矿化纳米颗粒(NACP)添加到正畸粘接剂中,形成多功能正畸粘接剂(MOC),评价此粘接剂预防托槽周围釉质脱矿的性能.方法 采用Transbond XT、RMGI、RMGI+MPC+DMAHDM、MOC四组材料在离体牙上粘接托槽.应用菌斑生物膜模型对离体牙脱矿14天后,检测釉质脱矿深度,横断面显微硬度,釉质脱矿形貌和矿质元素含量.结果 MOC组在距托槽50～150μm、150～250μm、250～350μm的部位脱矿深度分别为(42.81±17.05)μm,(47.72±18.99)μm和(58.18±21.34)μm,明显小于其他三组材料(P<0.05).MOC组脱矿后距托槽100～300μm处的硬度梯度最高.MOC组釉质表面脱矿程度最轻,Ca/P为1.79±0.11,高于其他三组材料(P<0.05).结论 多功能正畸粘接剂减少了托槽周围釉质脱矿,对于预防正畸釉质白斑发生具有临床应用价值.